特種氣體廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè),是超大規(guī)模集成電路、平面顯示器件、化合物半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池、光纖等電子工業(yè)生產(chǎn)不可缺少的原材料,它們主要應(yīng)用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝。有氣體倉(cāng)庫(kù)貯存。氣瓶倉(cāng)庫(kù)應(yīng)通風(fēng)干燥、清潔, 避免陽(yáng)光直射, 氣瓶庫(kù)應(yīng)清楚明“氣瓶貯存”字樣, 顯示適當(dāng)?shù)奈kU(xiǎn)標(biāo)記(例如、、有毒等) 。 特種氣體 specialily gas:用于各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)的薄膜氣體、摻雜氣體、外延氣體、離子注入氣體、刻蝕氣體及工藝設(shè)備所使用的氣體。通常包括可燃性氣體、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體、惰性氣體等。
CO2原料氣中包含的大量烴、硫類雜質(zhì)傳統(tǒng)精餾無(wú)法去除,本公司經(jīng)過(guò)多年潛心研究和多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),研發(fā)出的多元精餾添加劑打破了雜質(zhì)共沸而無(wú)法除去的技術(shù)難題,使用精餾代替粗脫硫、水解、精脫硫、脫烴、二次脫水等多種工段,較傳統(tǒng)工藝一次性投資降低 50%。包裝標(biāo)志:有毒氣體。常溫下,干氯不腐 蝕鋼{但在水和濕氣存在時(shí),由于生成鹽酸和次氯酸。所以呈強(qiáng)腐蝕性應(yīng)保持設(shè)備中無(wú) 水,管路、閥門(mén)和容器不用時(shí)應(yīng)密封或加帽,從而與大氣中的濕氣隔離電子工業(yè)是當(dāng)今推動(dòng)科技發(fā)展的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè),由于所用氣體的品種多、質(zhì)量要求高,為有別于其它領(lǐng)域應(yīng)用的氣體,人們把這類在電子工業(yè)中用的氣體統(tǒng)稱為電子特種氣體。
特種氣體在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用:晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴(kuò)散工藝用 到 POCl3 和 O2,減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3,刻蝕工藝用到 CF4;特種氣體的儲(chǔ)存注意事項(xiàng):高壓容器內(nèi),存有內(nèi)容物時(shí),無(wú)論內(nèi)容量多少,在該容器儲(chǔ)存場(chǎng)地2m內(nèi),嚴(yán)禁明火或放置燃、可燃物。場(chǎng)所的環(huán)境溫度≤40℃為佳。特種氣體的儲(chǔ)存注意事項(xiàng):儲(chǔ)存場(chǎng)地的道路,應(yīng)占整個(gè)場(chǎng)地面積的20%以上。充填容器和空容器需要明確區(qū)分存放。充填容器入庫(kù)前需檢漏,長(zhǎng)期存放的充填高壓容器需要每月復(fù)檢一次,并做記錄。
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